แจ้งเอกสารไม่ครบถ้วน, ไม่ตรงกับชื่อเรื่อง หรือมีข้อผิดพลาดเกี่ยวกับเอกสาร ติดต่อที่นี่ ==>
หากไม่มีอีเมลผู้รับให้กรอก thailis-noc@uni.net.th ติดต่อเจ้าหน้าที่เจ้าของเอกสาร กรณีเอกสารไม่ครบหรือไม่ตรง

Development of hydrogen embrittlement resisted pd-cu alloy membrane
การพัฒนาแพลเลเดียม-คอปเปอร์อัลลอยด์เมมเบรนที่ต้านทานต่อไฮโดรเจนเอมบริตเทิลเมนต์

Abstract: The development of PdCu alloy membranes that can be used in hydrogen separation at low working temperature (<300°C) without hydrogen embrittlement problem is a very attractive topic for the petrochemical industry. Pd–Cu membranes have been prepared by electroless plating and electroplating method on stainless steel support. The compositions of the PdCu alloy membranes were related to both the metal deposition rates. The appropriate annealing temperature of Pd–Cu membranes was found at 500 °C in argon atmosphere for 24 hours to form a complete alloy material. After thermal annealing, the Cu atom was distributed in Pd alloy membrane. The surface morphology, compositions, and crystallinity of the PdCu alloy membranes were characterized using scanning electron microscopy (SEM), energy-dispersive X-ray spectroscopy (EDS) and X-ray diffraction (XRD). The best Pd contents in PdCu alloy membrane were about 84 and 75 %at. The hydrogen flux through the PdCu alloy membrane was measured at temperature 150 to 300 °C and differential pressure 0.5 to 2.5 bar for membrane stability. The hydrogen flux increased with increasing temperature and pressure. Adding Cu atoms in Pd can reduce strain in Pd lattice structure. Both PdCu alloy membrane can be operated at the lower temperature than a critical temperature of pure Pd membrane without hydrogen embrittlement.
Abstract: การพัฒนาแพลเลเดียม‒คอปเปอร์อัลลอยด์เมมเบรนสำหรับการแยกก๊าซไฮโดรเจนที่อุณหภูมิต่ำกว่า 300 องศาเซลเซียสโดยปราศจากปัญหาไฮโดรเจนเอมบริตเทิลเมนต์นั้น เป็นที่น่าสนใจสำหรับอุตสาหกรรมปิโตรเคมี แพลเลเดียม‒คอปเปอร์เมมเบรนถูกเตรียมขึ้นด้วยวิธีการเคลือบที่ไม่ใช้ไฟฟ้าและการเคลือบที่ใช้ไฟฟ้าบนตัวรองรับเหล็กกล้าไร้สนิม โดยที่องค์ประกอบของแพลเลเดียม‒คอปเปอร์อัลลอยด์เมมเบรนมีความสัมพันธ์กับอัตราการการเคลือบของโลหะทั้งสอง โดยสภาวะที่เหมาะสมสำหรับการอบแพลเลเดียม‒คอปเปอร์เมมเบรนเพื่อให้อยู่ในรูปอัลลอยด์ที่สมบูรณ์นั้นคือ 500 องศาเซลเซียสในบรรยากาศอาร์กอนเป็นเวลา 24 ชั่วโมง พบว่าหลังการอบแพลเลเดียม‒คอปเปอร์เมมเบรนที่สภาวะดังกล่าวนั้นอะตอมของคอปเปอร์มีการกระจายตัวไปยังแพลเลเดียมอัลลอยด์เมมเบรน สำหรับลักษณะพื้นผิว องค์ประกอบ และโครงสร้างผลึกของแพลเลเดียม‒คอปเปอร์อัลลอยด์เมมเบรน ได้ตรวจสอบโดยใช้กล้องจุลทรรศน์แบบส่องกราดที่ติดตั้งเครื่องวิเคราะห์เชิงพลังงาน (อีดีเอ็กซ์) และเครื่องวัดการเลี้ยวเบนรังสีเอ็กซ์ (เอ็กซ์อาร์ดี) พบว่าองค์ประกอบที่ดีที่สุดของแพลเลเดียมในแพลเลเดียม‒คอปเปอร์อัลลอยด์เมมเบรนคือ 84 และ 75 เปอร์เซ็นต์ ปริมาณการแพร่ผ่านของไฮโดรเจนวัดที่อุณหภูมิ 150‒300 องศาเซลเซียสและความแตกต่างของความดัน 0.5‒2.5 บาร์ พบว่าปริมาณการแพร่ผ่านของก๊าซไฮโดรเจนเพิ่มขึ้นเมื่ออุณหภูมิและความดันเพิ่มขึ้น ดังนั้นการเติมคอปเปอร์ไปในแพลเลเดียมเมมเบรนมีส่วนช่วยในการลดความเครียดภายในโครงสร้างของแพลเดียมจึงส่งผลต่อความต้านทานไฮโดรเจนเอมบริตเทิลเมนต์ที่ทำให้แพลเลเดียม‒คอปเปอร์อัลลอยด์เมมเบรนสามารถใช้งานที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิวิกฤตของแพลเดียมเมมเบรนโดยปราศจากการเปราะเนื่องด้วยก๊าซไฮโดรเจน
Chulalongkorn University. Office of Academic Resources
Address: BANGKOK
Email: cuir@car.chula.ac.th
Role: advisor
Role: co-advisor
Created: 2017
Modified: 2024-01-02
Issued: 2024-01-02
วิทยานิพนธ์/Thesis
application/pdf
eng
DegreeName: Master of Science
©copyrights Chulalongkorn University
RightsAccess:
ลำดับที่.ชื่อแฟ้มข้อมูล ขนาดแฟ้มข้อมูลจำนวนเข้าถึง วัน-เวลาเข้าถึงล่าสุด
1 5872033723[1].pdf 3.63 MB
ใช้เวลา
0.030451 วินาที

Ratchaneekorn Chukiatthai
Title Contributor Type
Development of hydrogen embrittlement resisted pd-cu alloy membrane
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Ratchaneekorn Chukiatthai
Sukkaneste Tungasmita
Ratchaneekorn Chukiatthai
วิทยานิพนธ์/Thesis
Sukkaneste Tungasmita
Title Creator Type and Date Create
Structural and optical properties analysis of lattice-matched In[subscript x]Ga[subscript 1-x]P[subscript 1-y]N[aubscript y]/GaP single quantum well grown by MOVPE
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Sukkaneste Tungasmita;Sakuntam Sanorpim
Dares Kaewket
วิทยานิพนธ์/Thesis
Cr-Based intermetallic diffusion barrier for stinless steel supported palladium membrane
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Supawan Tantayanon;Sukkaneste Tungasmita
Jaroenporn Chokboribal
วิทยานิพนธ์/Thesis
Temperature effects on characterizations of hydroxyapatite films prepared by sol-gel method
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Sukkaneste Tungasmita;Satreerat Kampangkeaw Hodak
Bhasit Hongthong
วิทยานิพนธ์/Thesis
Growth of multifunctional zirconium nitride thin films by reactive DC magnetron sputtering
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Sukkaneste Tungasmita;Sakuntam Sanorpim
Jirawan Saenton
วิทยานิพนธ์/Thesis
Preparation of palladium-copper-silver alloy membrane on stainless steel for hydrogen separation
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Sukkaneste Tungasmita;Supawan Tantayanon
Warunporn Pattarateeranon
วิทยานิพนธ์/Thesis
MOVPE growth and characterization of dilute III-(III)-V-nitride semiconductor : ingapn on GaAs
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
;Sakuntam Sanorpim;Onabe Kentaro;Sukkaneste Tungasmita
Dares Kaewket
วิทยานิพนธ์/Thesis
Zr-based intermetallic diffusion barrier for stainless steel supported palladium membrane
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Korbratna Kriausakul;Sukkaneste Tungasmita
Maslin Chotirach
วิทยานิพนธ์/Thesis
Preparation Cr₂O₃ and CrN diffusion barriers for stainless steel supported palladium membrane
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Supawan Tantayanon;Sukkaneste Tungasmita
Saranya Ploypardup
วิทยานิพนธ์/Thesis
Growth of nanostructure of transition metal alloy nitride and carbide
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
;Sukkaneste Tungasmita;Surasing Chaiyakun
Pattira Homhuan
วิทยานิพนธ์/Thesis
Structural and tribological characterization of CrxN thin films prepared by reactive DC magnetron sputtering technique
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Sukkaneste Tungasmita;Karjornyod Yoodee
Pattira Homhoul
วิทยานิพนธ์/Thesis
Functional surfactants in lubricant for microelectronic industry
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
;Sukkaneste Tungasmita;Duangmol Tungasmita
Chuenkamol Khongphow
วิทยานิพนธ์/Thesis
Synthesis of Ni-TiN incorporated porous silica catalysts for dry reforming of methane
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
;Sukkaneste Tungasmita;Supawan Tantayanon;Duangamol Tungasmita
Maslin Chotirach
วิทยานิพนธ์/Thesis
Plasma characteristics and ion etching performance in hard disk drive slider fabrication processes
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
;Sukkaneste Tungasmita
Napakan Wongpanit
วิทยานิพนธ์/Thesis
Effect of corrosion inhibitors in lubricant for electronic industry
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
;Sukkaneste Tungasmita;Duangamol Tungasmita
Natclitta Maipul
วิทยานิพนธ์/Thesis
Tribological characterization of lapping lubricant in hard disk drive fabrication
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
;Sukkaneste Tungasmita
Sawanee Jitphayomkun
วิทยานิพนธ์/Thesis
Titanosilicate porous thin film on silicon substrate as catalyst for hydroxylation of phenol in continuous flow reactor
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Sukkaneste Tungasmita;Duangamol Tungasmita
Kusuma Sriyanai
วิทยานิพนธ์/Thesis
Development of hydrogen embrittlement resisted pd-cu alloy membrane
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Sukkaneste Tungasmita;Ratchaneekorn Chukiatthai
Ratchaneekorn Chukiatthai
วิทยานิพนธ์/Thesis
Thermal stability characterization of tunneling magneto resistive structure for data storage applications
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Sukkaneste Tungasmita;Kurt Ruthe
Pornchai Rakpongsiri
วิทยานิพนธ์/Thesis
Effect of transition metal-alloying on the properties of nitride and oxide films
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Gobboon Lothongkum;Patama Visuttipitukul;Sukkaneste Tungasmita
Kattareeya Taweesup
วิทยานิพนธ์/Thesis
Ratchaneekorn Chukiatthai
Title Creator Type and Date Create
Development of hydrogen embrittlement resisted pd-cu alloy membrane
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Sukkaneste Tungasmita;Ratchaneekorn Chukiatthai
Ratchaneekorn Chukiatthai
วิทยานิพนธ์/Thesis
Copyright 2000 - 2026 ThaiLIS Digital Collection Working Group. All rights reserved.
ThaiLIS is Thailand Library Integrated System
สนับสนุนโดย สำนักงานบริหารเทคโนโลยีสารสนเทศเพื่อพัฒนาการศึกษา
กระทรวงการอุดมศึกษา วิทยาศาสตร์ วิจัยและนวัตกรรม
328 ถ.ศรีอยุธยา แขวง ทุ่งพญาไท เขต ราชเทวี กรุงเทพ 10400 โทร. โทร. 02-232-4000
กำลัง ออน์ไลน์
ภายในเครือข่าย ThaiLIS จำนวน 0
ภายนอกเครือข่าย ThaiLIS จำนวน 1,700
รวม 1,700 คน

More info..
นอก ThaiLIS = 32,637 ครั้ง
มหาวิทยาลัยสังกัดทบวงเดิม = 23 ครั้ง
มหาวิทยาลัยราชภัฏ = 21 ครั้ง
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีราชมงคล = 3 ครั้ง
รวม 32,684 ครั้ง
Database server :
Version 2.5 Last update 1-06-2018
Power By SUSE PHP MySQL IndexData Mambo Bootstrap
มีปัญหาในการใช้งานติดต่อผ่านระบบ UniNetHelp


Server : 8.199.134
Client : Not ThaiLIS Member
From IP : 216.73.216.5