Abstract:
การศึกษาการเพิ่มสมบัติของฟิล์มบางซิงค์ออกไซด์ (ZnO) ได้มีการศึกษาที่หลากหลายมากขึ้น โดยหนึ่งในรูปแบบที่นิยมในการศึกษาเพื่อเพิ่มสมบัติของฟิล์มบางคือการเจือซึ่งในงานวิจัยนี้ได้ทำการศึกษารูปแบบการเจือร่วมของอะลูมิเนียมและแกลเลียม สำหรับฟิล์มบางซิงค์-ออกไซด์ โดยใช้เทคนิคสเปรย์ไพโรไลสิส ซิงค์อะซิเตท (Zn(CH3OOH)2.2H2O) ถูกนำมาใช้เป็นสารตั้งต้นสำหรับการปลูกฟิล์มบางซิงค์ออกไซด์อะลูมิเนียมไนเตรท (Al(NO3)3.9H2O)O3)3.9H2O) และแกลเลียมไนเตรท (Ga(NO3)3.9H2O) สำหรับเพื่อเป็นสารตั้งต้นการเจือของอะลูมิเนียมและแกลเลียม ตามลำดับ โดยทำการศึกษาอัตราส่วนการเจือของอะลูมิเนียมและแกลเลียมที่ 5 :0, 3.75 :1.25, 2.5 :2.5, 1.25 :3.75 และ0 :5 อะตอมมิคเปอร์เซ็นต์ ซึ่งทำการปลูกที่อุณหภูมิ 400 องศาเซลเซียส อัตราการไหลของสารละลายและแก๊สนำพาที่ 4 ml/min และ0.2kg/cm2 ตามลำดับ จากนั้นจึงทำการวิเคราะห์โครงสร้างผลึก โครงสร้างทางจุลภาคสมบติทางแสงและสมบติทางไฟฟ้าโดย X-ray diffraction (XRD), Scanning electron microscopy (SEM), Atomic force microscope (AFM), Profilometer, UV-Visible spectroscopy และเทคนิค Four point probe
Co-doping a semiconductor thin film with two or more dopants is a feasible technique to improve the electrical properties of the thin film. In this work, we studied the co-doping of Al and Ga n-type impurities in a ZnO film (AGZO). The AGZO thin films were deposited on a heated glass substrate by spray pyrolysis method. The precursor solution was a mixture of zinc acetate dihydrate, aluminium nitrate and gallium nitrate. The total doping concentration was 5 at% with varying Al:Ga co-doping proportions of 0:5, 1.25:3.75, 2.5:2.5, 3.75:1.25 and 5:0 at%. The effect of Al/Ga co-doping on the structural, texture, morphological, optical and electrical properties of the AGZO films were investigated using X-ray Diffraction (XRD), Atomic Force Microscope (AFM), Profilometer, Scanning Electron Microscopy (SEM), UV-Visible Spectroscopy and Four-Point Probe technique, respectively.