Growth and Characterization of Nanocrystalline TiO2 Thin Films on Unheated Substrates by DC Reactive Magnetron Sputtering

การปลูกและวิเคราะห์ฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์โครงสร้างนาโนบนวัสดุรองรับที่ไม่ให้ความร้อนด้วยวิธีดีซีรีแอกทีฟแมกนีตรอนสปัต

Name: Nirun Witit-anun

Name: นิรันดร์ วิทิตอนันต์

keyword: Titanium Dioxide

Abstract: Titanium dioxide (TiO2) thin films were deposited on unheated substrate with long substrate-target distance (dst) by DC reactive magnetron sputtering method. The effects of deposition parameter such as O2 gas flow rate, total pressure (Pt) , substrate-target distance (dst), radial position (dx) and deposition time have been investigated. The properties of the as-deposited TiO2 thin film such as, crystal structure, surface morphology, film thickness and transmittance were characterized by X-ray diffraction (XRD), transmission electron microscopy (TEM), atomic force microscopy (AFM), and spectrophotometer. The results showed that rutile phase TiO2 thin films were successful deposited on unheated substrate at long substrate-target distance (dst) at low total pressure (Pt). The crystallinity and grain size of rutile phase Ti02 thin films were increased with increasing of total pressure (Pt) and deposition time. Furthermore, nanostructure rutile phase Ti02 thin films were obtained for all deposition conditions. In addition, the grain size of TiO2 thin films was in the range about 20-80 nm. The refractive index (at lambda = 500 nm) and the energy gap (Eg) were found in the range 2.2-2.7 and 2.97-3.34, respectively.

Abstract: ฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์ (TiO2) ถูกเคลือบบนวัสดุรองรับโดยไม่ให้ความร้อนที่ระยะไกลด้วย วิธี ดีซี รีแอคตีฟ แมกนีตรอน สปัตเตอริง ผลของเงื่อนไขการเคลือบ ได้แก่ อัตราการไหลแก๊สออกซิเจน ความดันรวม (Pt) ระยะห่างระหว่างหน้าเป้าสารเคลือบกับวัสดุรองรับ (dst) ตำแหน่งในแนวรัศมี (dx) และเวลาเคลือบที่มีต่อการเกิดฟิล์มได้ถูกศึกษา ทั้งนี้สมบัติของฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์ ที่เคลือบได้ เช่น โครงสร้างผลึก ลักษณะพื้นผิว ความหนา ค่าการส่งผ่านแสงถูกตรวจสอบด้วย X-ray diffraction (XRD), transmission electron microscopy (TEM), atomic force microscopy (AFM) และสเปคโตรโฟโตมิเตอร์ตามลำดับ ผลการศึกษาแสดงว่า ฟิล์มไททาเนียมไดออกไซด์ที่มีเฟสรูไทล์ ถูกเคลือบบนวัสดุรองรับ โดยไม่ให้ความร้อนที่ระยะไกลได้สำเร็จที่ความดันรวมขณะเคลือบต่ำ ความเป็นผลึกและขนาดเกรนของฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์เฟสรูไทล์ได้เพิ่มขึ้นตามการเพิ่ม ความดันรวมและเวลาเคลือบ ยิ่งกว่านั้นฟิล์มบางไทเทเนียมไดออกไซด์เฟสรูไทล์โครงสร้างนาโน เกิดขึ้นทุกเงื่อนไขการเคลือบ ขนาดเกรนของฟิล์มบางไทเทเนียมไดออกไซด์อยู่ในช่วง 20-80 mm ค่าดัชนีหักเห (ที่ความยาวคลื่นเท่ากับ 500 mm) และค่าแถบพลังงาน (Eg) ถูกพบในช่วง 2.2-2.7 และ 2.97-3.34 eV ตามลำดับ

King Mongkut's University of Technology Thonburi. KMUTT Library

Address: BANGKOK

Email: info.lib@mail.kmutt.ac.th

Name: Pichet Limsuwan

Role: Advisor

Created: 2010

Modified: 2011-09-16

Issued: 2011-08-28

วิทยานิพนธ์/Thesis

application/pdf

CallNumber: PHY598

eng

DegreeName: Doctor of Philosophy

Level: Doctoral Degree

Descipline: Physics

Grantor: King Mongkut's University of Technology Thonburi

©copyrights King Mongkut's University of Technology Thonburi

ลำดับที่.	ชื่อแฟ้มข้อมูล	ขนาดแฟ้มข้อมูล	จำนวนเข้าถึง	วัน-เวลาเข้าถึงล่าสุด
1	PHY598.pdf	2.59 MB	117	2024-12-19 10:59:46
2	PHY598ab.pdf	81.22 KB	40	2021-02-23 15:35:13

ใช้เวลา

0.037083 วินาที