แจ้งเอกสารไม่ครบถ้วน, ไม่ตรงกับชื่อเรื่อง หรือมีข้อผิดพลาดเกี่ยวกับเอกสาร ติดต่อที่นี่ ==>
หากไม่มีอีเมลผู้รับให้กรอก thailis-noc@uni.net.th
หากไม่มีอีเมลผู้รับให้กรอก thailis-noc@uni.net.th
สุชาติ สุภาพ. ระบบเคลือบฟิล์มบางโดยเทคนิคสปัตเตอริง. ปริญญาโท(ฟิสิกส์). จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย. สำนักงานวิทยทรัพยากร. : จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย, 2535.
ระบบเคลือบฟิล์มบางโดยเทคนิคสปัตเตอริง
Thin film coating system by sputtering technique
Name: สุชาติ สุภาพ
ThaSH:
สปัตเตอริง (ฟิสิกส์)
ThaSH:
ฟิล์มบาง
Abstract:
ในงานวิจัยนี้ได้ทำการออกแบบและสร้างระบบเคลือบฟิล์มบางโดยเทคนิคสปัตเตอริงขึ้นมา แหล่งกำเนิดไฟฟ้ากระแสตรงโวลต์สูงใช้สำหรับสร้างสนามไฟฟ้าขึ้นระหว่างขั้วอิเล็กโทรดมีแรงเคลื่อนไฟฟ้าสูงสุดประมาณ 2000 โวลต์ ขั้วคาโธดที่เป็นเป้าทำด้วยแผ่นบางกลมของโมลิบดีนัม มีขนาดเส้นผ่านศูนย์กลางเท่ากับ 10 เซ็นติเมตร และหนาเท่ากับ 0.05 เซ็นติเมตร แผ่นรองรับฟิล์มบางตลอดการทดลองใช้กระจบปิดสไลด์ธรรมดา เพื่อปัองกันการสปัตเตอร์ที่บริเวณขอบและผิวบนของขั้นดาโธดและลดการอาร์คที่อาจจะเกิดขึ้น ได้คลุมบริเวณดังกล่าวด้วยแผ่นสเตนเลสที่ต่อลงดินไว้ อนุภาคพลังงานสูงสำหรับกระบวนการสปัตเตอริงในการทดลองนี้คืออิออนของกาซอาร์กอน ในโกลว์ดิสชาร์จความดันการซอาร์กอนในภาชนะสุญญากาศถูกควบคุมให้คงที่ด้วยการปรับวาล์วรูเข็ม ความดันต่ำสุดในภาชนะสุญญากาศมีค่าประมาณ 5x 10-4 ทอร์ อัตราการเคลือบฟล์มบางโมลิบดีนัมมีค่าประมาณ 0.5 ไมครอนต่อชั่วโมง พบว่าโครงสร้างผลึกของฟิล์มบางไม่สมบูรณ์ โดยตรวจสอบด้วยวิธีเอ็กซ์เรย์ดิฟแฟรคชั่นและสภาพต้านทานไฟฟ้า[สัญลักษณ์] ต้นแบบของฟิล์มมีค่าประมาณ 155 ไมโครโอห์ม-เมตร โดยวัดด้วยวิธีแวนเดอร์เพาว์
Abstract:
In this research, a thin film coating system by sputtering technique was designed and constructed. A high voltage D.C. power supply used for generating the electric field between electrodes has a maximum voltage of about 2,000 v. The target cathode was made of a circular sheet of molybdenum with a diameter of 10 cm. and thickness of 0.05 cm. Conventional cover glasses were used as substrates through out this work. In order to protest sputtering at the outer edge and the upper surface of the cathode and also to inhibit possible are discharge, a grounded stainless steel sheet was provided as a shield. Energetic ions for the sputtering process in this experiment were argon ions in the glow discharge. The argon pressure in the vacuum chamber was kept constant by controlling a needle valve. The lowest pressure in the chamber was about 5×10 -4 torr. The speed of coating of molybdenum this film was about 0.5 µm./hr. It was found that the crystal structure of the4 films was not perfect as examined by x rays diffraction method and the typical resistivity of the film was about 155 µ Ω - m as measured by van der Pavw method.
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย. สำนักงานวิทยทรัพยากร
Address:
กรุงเทพมหานคร
Email:
cuir@car.chula.ac.th
Name: ขจรยศ อยู่ดี
Role:
ที่ปรึกษา
Created:
2535
Modified:
2563-06-27
Issued:
2563-06-27
วิทยานิพนธ์/Thesis
application/pdf
URL: http://cuir.car.chula.ac.th/handle/123456789/62847
tha
DegreeName: วิทยาศาสตรมหาบัณฑิต
Level: ปริญญาโท
Descipline: ฟิสิกส์
Grantor: จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
©copyrights จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
RightsAccess:
ใช้เวลา
0.038909 วินาที
สุชาติ สุภาพ
| Title | Contributor | Type |
|---|---|---|
| ระบบสารสนเทศเพื่อการดูแลนักเรียนในสถาบันการศึกษาขั้นพื้นฐาน
มหาวิทยาลัยอุบลราชธานี สุชาติ สุภาพิมพ์ | อนันท์ อุ่นศิวิไลย์ | วิทยานิพนธ์/Thesis |
| ระบบเคลือบฟิล์มบางโดยเทคนิคสปัตเตอริง
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย สุชาติ สุภาพ | ขจรยศ อยู่ดี | วิทยานิพนธ์/Thesis |
ขจรยศ อยู่ดี