การเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางโครเมียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคตีฟ ดีซี แมกนีตรอน โคสปัตเตอริง

Preparation and characterization of CrZrN thin films deposited by reactive DC magnetron Co-sputtering

Name: สุพัตรา แก้ววงษา

keyword: ฟิล์มบาง

; โครเมียมเซอร์โคเนียมไนไตรด์

; รีแอคตีฟโคสปัตเตอริง

Abstract: ิฟิล์มบางโครเมียมเซอร์โคเนียมไนไตรด์ (CrZrN) เคลือบด้วยวิธีรีแอคตีฟ ดีซี แมกนีต รอน โคสปัตเตอริงบนกระจกสไลด์และแผนซิลิกอน เพื่อศึกษาผลของกระแสไฟฟ้ าในการ ่ สปัตเตอร์ของเป้าเซอร์โคเนียม (IZr) ในช่วง 0.5 A ถึง 2.0 A ที่มีต่อโครงสร้างผลึก ขนาดผลึก ลักษณะพื้นผิว ความหนาและองค์ประกอบธาตุของฟิล์ม ด้วยการวิเคราะห์ด้วยเทคนิค X-ray diffraction (XRD), Atomic Force Microscope (AFM), Field Emission Scanning Electron Microscopy (FE-SEM) และ Energy Dispersive X-ray spectroscopy (EDX) ตามลําดับ ผลจาก การศึกษาพบว่า โครงสร้างผลึก ขนาดผลึก ลักษณะพื้นผิว ความหนาและองค์ประกอบธาตุของ ฟิล์ม ขึ้นกับกระแสไฟฟ้าของเป้าเซอร์โคเนียม โดยฟิล์มโครเมียมเซอร์โคเนียมไนไตรด์ที่ได้มี โครงสร้างผลึก ระนาบ (111), (200) และ (220) ขนาดผลึกลดลงเมื่อกระแสเซอร์โคเนียมเพิ่ มขึ้นความหยาบผิวของฟิล์มมีค่าอยู่ระหว่าง 0.888 – 1.959 นาโนเมตร ขณะที่ความหนาของฟิล์มมีค่า เพิ่ มขึ้นจาก 324ถึง 669 นาโนเมตรผลจากการวิเคราะห์ด้วย EDX พบว่า องค์ประกอบธาตุของฟิล์มขึ้นกับกระแสไฟฟ้าของเป้าเซอร์โคเนียม

Abstract: Chromium zirconium nitride (CrZrN) thin films were deposited by reactive DC magnetron co-sputtering method on glass slides and silicon wafers. The effect of zirconium sputtering current (IZr) ranging from 0.5 A to 2.0 A on the crystal structure, crystallite size, surface morphology, thickness and composition of the films were characterized by X-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM), field emission scanning electron microscopy (FE-SEM) and energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX), respectively. The results showed that the crystal structure, crystallite size, surface morphology, thickness and composition of the films are strongly dependent on the zirconium sputtering current (IZr). All the films are composed of the CrZrN crystal structure (111), (200) and (220) planes. The crystallite sizes decreased with increasing Zr current. The surface roughness of the films were in the range of 0.888 to 1.959 nm, whereas thickness increased from 324 to 669 nm. The EDX measurement indicated that the composition of the film are strongly dependent on the zirconium sputtering current (IZr).

มหาวิทยาลัยบูรพา. สำนักหอสมุด

Address: ชลบุรี

Email: buulibrary@buu.ac.th

Name: สุรสิงห์ ไชยคุณ

Role: อาจารย์ที่ปรึกษาหลัก

Created: 2559

Modified: 2565-07-26

Issued: 2559-08-22

วิทยานิพนธ์/Thesis

application/pdf

tha

DegreeName: วิทยาศาสตรมหาบัณฑิต

Level: ปริญญาโท

Descipline: ฟิสิกส์

Grantor: มหาวิทยาลัยบูรพา

©copyrights มหาวิทยาลัยบูรพา

ลำดับที่.	ชื่อแฟ้มข้อมูล	ขนาดแฟ้มข้อมูล	จำนวนเข้าถึง	วัน-เวลาเข้าถึงล่าสุด
1	56910501.pdf	3.99 MB	3	2024-04-10 14:12:26

ใช้เวลา

0.034763 วินาที