กำลังแสดงหน้าที่ 1/1
แยกตามชนิดเอกสาร
แยกตามหน่วยงาน
ผลการสืบค้นหัวเรื่อง ขึ้นต้นด้วยตัวอักษร Cathode sputtering (Plating process) มีข้อมูลจำนวน 1 รายการ
ลำดับที่.หัวเรื่อง(จำนวนรายการ)
1Cathode sputtering (Plating process) (2)
(1) การประยุกต์ใช้ตัวแบบจุดแคโทดสำหรับการพัฒนาหน้าสัมผัสวัสดุแคโทดผสมระหว่างเงินกับแพลเลเดียมของตัวตัดต่อวงจรกระแสอาร์คต่ำในสุญญากาศ
ปรมะ สีแสนซุย;Parama Seesaensui ;มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี (วิทยานิพนธ์/Thesis)
(2) Effect of aluminium sputtering current on structure of CrAlN thin film deposited by reactive DC magnetron Co-sputtering
Amonrat Khambun;Adisorn Buranawong;Nirun Witit-Anun ;มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ (บทความ/Article)
ปีที่สร้างเอกสาร
หัวเรื่อง
ผู้สร้างสรรค์ผล งาน
    กำลังแสดงหน้าที่ 1/1
Copyright 2000 - 2026 ThaiLIS Digital Collection Working Group. All rights reserved.
ThaiLIS is Thailand Library Integrated System
สนับสนุนโดย สำนักงานบริหารเทคโนโลยีสารสนเทศเพื่อพัฒนาการศึกษา
กระทรวงการอุดมศึกษา วิทยาศาสตร์ วิจัยและนวัตกรรม
328 ถ.ศรีอยุธยา แขวง ทุ่งพญาไท เขต ราชเทวี กรุงเทพ 10400 โทร. โทร. 02-232-4000
กำลัง ออน์ไลน์
ภายในเครือข่าย ThaiLIS จำนวน 26
ภายนอกเครือข่าย ThaiLIS จำนวน 3,799
รวม 3,825 คน

More info..
นอก ThaiLIS = 197,895 ครั้ง
มหาวิทยาลัยราชภัฏ = 471 ครั้ง
มหาวิทยาลัยสังกัดทบวงเดิม = 332 ครั้ง
มหาวิทยาลัยเอกชน = 47 ครั้ง
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีราชมงคล = 23 ครั้ง
มหาวิทยาลัยการกีฬาแห่งชาติ = 5 ครั้ง
หน่วยงานอื่น = 4 ครั้ง
มหาวิทยาลัยสงฆ์ = 1 ครั้ง
สถาบันพระบรมราชชนก = 1 ครั้ง
รวม 198,779 ครั้ง
Database server :
Version 2.5 Last update 1-06-2018
Power By SUSE PHP MySQL IndexData Mambo Bootstrap
มีปัญหาในการใช้งานติดต่อผ่านระบบ UniNetHelp


Server : 8.199.134
Client : Not ThaiLIS Member
From IP : 216.73.217.151