Nanostructured ZnO films prepared by modified thermal oxidation of Zinc film deposited on mesh substrate

ฟิล์มโครงสร้างนาโนสังกะสีออกไซด์เตรียมโดยการประยุกต์กระบวนการออกซิเดชันทางความร้อนของฟิล์มสังกะสีที่เคลือบบนผิวรองรับตาข่าย

Name: Thongchai Phantadaporn

Name: Kamon Aiempanakit

Name: ธงชัย พันธุ์ธาดาพร

Name: กมล เอี่ยมพนากิจ

ThaSH: Zinc oxide

ThaSH: Zinc oxide thin films

ThaSH: Oxidation

ThaSH: Nanostructures

Abstract: โครงสร้างระดับนาโนสังกะสีออกไซด์ (ZnO) ถูกเตรียมโดยการเคลือบด้วยไฟฟ้าเคมีบนตาข่ายสแตนเลส (SSM) ด้วยศักย์ไฟฟ้า 4 โวลต์ใช้อุณหภูมิออกซิเดชัน 300 500 และ 700 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 1 ชั่วโมง เพื่อปรับเปลี่ยนโครงสร้าง ผลึกและสัณฐานวิทยาของฟิล์ม ZnO สมบัติทางสัณฐานวิทยาและโครงสร้างผลึกของฟิล์ม ZnO ได้รับการวิเคราะห์ด้วยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด (FE-SEM) และเครื่องวิเคราะห์การเลี้ยว เบนรังสีเอกซ์ (XRD) ตามลำดับ ผลการวิจัยแสดงให้เห็นว่าฟิล์ม ZnO มีโครงสร้างผลึกแบบเฮกซะโกนอลเวอร์ทไซต์ ขนาดผลึกและความเป็นผลึกสูงขึ้นเมื่อเพิ่มอุณหภูมิ ออกซิเดชัน ขนาดผลึกใหญ่สุดประมาณ 29.82 นาโนเมตร ที่อุณหภูมิออกซิเดชัน 700 องศาเซลเซียส ฟิล์ม ZnO แสดงสัณฐานวิทยามีลักษณะเป็นแผ่นนาโนมีพื้นผิวที่ไม่ชอบน้ำด้วยมุมสัมผัสหยดน้ำประมาณ 148.2±1.3 องศาฟิล์ม ZnO ทั้งหมด ถูกนำมาทดสอบสมบัติการเร่งปฏิกิริยาด้วยแสงสำหรับการสลายตัวของสารละลายเมทิลีนบลู (MB) ภายใต้การฉายรังสีอัลตราไวโอเลต (UV) ที่เวลาต่าง ๆ ผลการวิจัยพบว่าอุณหภูมิออกซิเดชันมีผลกระทบอย่างมีนัยสำคัญต่อทั้งโครงสร้างผลึก และการเร่งปฏิกิริยาด้วยแสง โดยที่อุณหภูมิออกซิเดชัน 700 องศาเซลเซียส พบว่าฟิล์ม ZnO ให้ผลการสลาย MB ได้ดีที่สุด ประมาณ 75.23% Zinc oxide (ZnO) nanostructures were prepared by electrochemical deposition on a stainless steel mesh substrate (SSM) at a potential difference of 4 volts. Oxidation temperatures of 300, 500, and 700°C for 1 hour were used to modify the crystal structure and morphology of the ZnO films. The morphological and structural properties of the ZnO films were analyzed with a field emission scanning electron microscope (FE- SEM) and x- ray diffractometer (XRD), respectively. The results indicated that the ZnO films exhibited the crystal structure of hexagonal wurtzite. The crystallinity and crystalline size improved with increasing oxidation temperature. The highest crystalline size of ZnO was about 29.82 nm for an oxidation temperature of 700 °C. The ZnO films showed morphology of nanosheet structure with a hydrophobic surface of water contact angle about 148.2° ± 1.3°. All ZnO films were tested for their photocatalytic properties with degradation of methylene blue (MB) solution for various ultraviolet (UV) irradiation time. The results showed that oxidation temperature significantly affected both the crystal structure and photocatalytic activity of ZnO films. The ZnO films prepared at a temperature of 700°C exhibited the best degradation of MB solution of about 75.23%.

Burapha University. Library

Address: CHONBURI

Email: buulibrary@buu.ac.th

Created: 2565

Modified: 2022-08-16

Issued: 2022-08-16

บทความ/Article

application/pdf

ISBN: 2351-0781

BibliograpyCitation : วารสารวิทยาศาสตร์บูรพา. ปีที่ 27, ฉบับที่ 2 (พ.ค.-ส.ค. 2565), หน้า 921-938

eng

©copyrights Burapha University

ลำดับที่.	ชื่อแฟ้มข้อมูล	ขนาดแฟ้มข้อมูล	จำนวนเข้าถึง	วัน-เวลาเข้าถึงล่าสุด
1	sci27n2p921-938.pdf	1.14 MB

ใช้เวลา

0.031711 วินาที