แจ้งเอกสารไม่ครบถ้วน, ไม่ตรงกับชื่อเรื่อง หรือมีข้อผิดพลาดเกี่ยวกับเอกสาร ติดต่อที่นี่ ==>
หากไม่มีอีเมลผู้รับให้กรอก thailis-noc@uni.net.th ติดต่อเจ้าหน้าที่เจ้าของเอกสาร กรณีเอกสารไม่ครบหรือไม่ตรง

Effects of surfactants as additives in electronic-grade lubricant for magnetic recording head lapping processes

Organization : Chulalongkorn University. Faculty of Science

Organization : Chulalongkorn University. Faculty of Science

Organization : Western Digital (Thailand) Co., Ltd.

Organization : Western Digital (Thailand) Co., Ltd.

Organization : Chulalongkorn University. Faculty of Science
Email : sukkaneste.t@chula.ac.th
keyword: Lapping Process
LCSH: Lubrication and lubricants -- Additives
LCSH: Electronic materials
Abstract: Grinding and lapping are important processes in microelectronic device manufacture, i.e. hard disk drive magnetic recording head (slider) fabrication. In lapping process, diamond embedded Bi-Sn alloy plate is used together with functional lubricant to reduce excessive friction side effects and protect the surface from corrosion. In this research, we studied the effects of surfactants which play an important role as the lubricant additives to reduce the contamination. The scanning electron microscopy results showed that the surfactants acted as micelle formation additive to reduce and prevent the deposition of metallic particle contaminants. The characteristics and performances of modified lubricants were measured using quasi-static test (QST). Additional surfactant gave the change magneto resistive resistance value (%MRR) and lapping rate lower than the standard glycol-based lubricant. The potentiodynamic polarization indicated surfactant can also yield a better performance in term of corrosion protection during lapping processes.
King Mongkut's University of Technology North Bangkok. Central Library
Address: BANGKOK
Email: library@kmutnb.ac.th
Created: 2018
Modified: 2562-07-10
Issued: 2019-07-10
บทความ/Article
application/pdf
BibliograpyCitation : In Prince of Songkla University Faculty of Science. Pure and Applied Chemistry International Conference (PACCON 2018) (p.MN303-MN308). Songkla : Prince of Songkla University
eng
©copyrights King Mongkut's University of Technology North Bangkok
RightsAccess:
ลำดับที่.ชื่อแฟ้มข้อมูล ขนาดแฟ้มข้อมูลจำนวนเข้าถึง วัน-เวลาเข้าถึงล่าสุด
1 PACCON 2018pp.MN303-MN308.pdf 901.89 KB
ใช้เวลา
0.03941 วินาที

Chuenkamol Khongphow
Title Contributor Type
Effects of surfactants as additives in electronic-grade lubricant for magnetic recording head lapping processes
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Chuenkamol Khongphow;Duangamol Tungasmita;Benjie L. Fernandez;Chakkrit Supavasuthi;Sukkaneste Tungasmita

บทความ/Article
Functional surfactants in lubricant for microelectronic industry
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
Chuenkamol Khongphow

Sukkaneste Tungasmita
Duangmol Tungasmita
วิทยานิพนธ์/Thesis
Duangamol Tungasmita
Title Contributor Type
Preparation of butylated cumylphenol in flow reactor
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Warumporn Singhapan;Duangamol Tungasmita

บทความ/Article
Development organic coolants for electronics industry
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Rattikierati Tnuputdhanapun;Duangkamon Jiraroj;Sukkaneste Tungasmita;Sarapong Choumwong;Chakkrit Supavasuthi;Duangamol Tungasmita

บทความ/Article
Effects of surfactants as additives in electronic-grade lubricant for magnetic recording head lapping processes
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Chuenkamol Khongphow;Duangamol Tungasmita;Benjie L. Fernandez;Chakkrit Supavasuthi;Sukkaneste Tungasmita

บทความ/Article
Effects of corrosion inhibitors in lubricant for microelectronic lapping processes
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Natkritta Maipul;Duangamol Tungasmita;Benjie L. Fernandez;Chakkrit Supavasuthi;Sukkaneste Tungasmita

บทความ/Article
Monoolein production from esterification of glycerol with oleic acid using tungstophosphoric acid supported on functionalized SBA-15
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Kullatida Ratchadapiban;Duangamol Tungasmita;Wipark Anutrasakda

บทความ/Article
Preparation of sulfonic acid functionalized cubic mesoporous Ia-3d (MCA)
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Siripan Samutsri;Duangamol Tungasmita

บทความ/Article
Preparation and characterization of metal modified Ti-MWW for benzene hydroxylation
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Pornpimol Wongsuwan;Duangamol Tungasmita

บทความ/Article
Growth and characterizations of titanosilicate porous thin films on silicon substrates
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Kusuma Sriyanai;Duangamol Tungasmita;Sukkaneste Tungasmita

บทความ/Article
Benjie L. Fernandez
Title Contributor Type
Effects of surfactants as additives in electronic-grade lubricant for magnetic recording head lapping processes
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Chuenkamol Khongphow;Duangamol Tungasmita;Benjie L. Fernandez;Chakkrit Supavasuthi;Sukkaneste Tungasmita

บทความ/Article
Effects of corrosion inhibitors in lubricant for microelectronic lapping processes
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Natkritta Maipul;Duangamol Tungasmita;Benjie L. Fernandez;Chakkrit Supavasuthi;Sukkaneste Tungasmita

บทความ/Article
Chakkrit Supavasuthi
Title Contributor Type
ยุทธศาสตร์การจัดการโซ่อุปทานกับความสามารถในการแข่งขัน : กรณีศึกษาจากบริษัทผลิตฮาร์ดดิสก์ไดร์ฟ
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี
จักรกฤช สุภาวสุทธิ์;Chakkrit Supavasuthi
ชิต เหล่าวัฒนา
ตรีทศ เหล่าศิริหงษ์ทอง
Djitt Laowattana
Tritos Laosirihongthong
วิทยานิพนธ์/Thesis
Development organic coolants for electronics industry
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Rattikierati Tnuputdhanapun;Duangkamon Jiraroj;Sukkaneste Tungasmita;Sarapong Choumwong;Chakkrit Supavasuthi;Duangamol Tungasmita

บทความ/Article
Effects of surfactants as additives in electronic-grade lubricant for magnetic recording head lapping processes
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Chuenkamol Khongphow;Duangamol Tungasmita;Benjie L. Fernandez;Chakkrit Supavasuthi;Sukkaneste Tungasmita

บทความ/Article
Effects of corrosion inhibitors in lubricant for microelectronic lapping processes
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Natkritta Maipul;Duangamol Tungasmita;Benjie L. Fernandez;Chakkrit Supavasuthi;Sukkaneste Tungasmita

บทความ/Article
Sukkaneste Tungasmita
Title Contributor Type
Development organic coolants for electronics industry
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Rattikierati Tnuputdhanapun;Duangkamon Jiraroj;Sukkaneste Tungasmita;Sarapong Choumwong;Chakkrit Supavasuthi;Duangamol Tungasmita

บทความ/Article
Effects of surfactants as additives in electronic-grade lubricant for magnetic recording head lapping processes
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Chuenkamol Khongphow;Duangamol Tungasmita;Benjie L. Fernandez;Chakkrit Supavasuthi;Sukkaneste Tungasmita

บทความ/Article
Effects of corrosion inhibitors in lubricant for microelectronic lapping processes
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Natkritta Maipul;Duangamol Tungasmita;Benjie L. Fernandez;Chakkrit Supavasuthi;Sukkaneste Tungasmita

บทความ/Article
Growth and characterizations of titanosilicate porous thin films on silicon substrates
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าพระนครเหนือ
Kusuma Sriyanai;Duangamol Tungasmita;Sukkaneste Tungasmita

บทความ/Article
Copyright 2000 - 2026 ThaiLIS Digital Collection Working Group. All rights reserved.
ThaiLIS is Thailand Library Integrated System
สนับสนุนโดย สำนักงานบริหารเทคโนโลยีสารสนเทศเพื่อพัฒนาการศึกษา
กระทรวงการอุดมศึกษา วิทยาศาสตร์ วิจัยและนวัตกรรม
328 ถ.ศรีอยุธยา แขวง ทุ่งพญาไท เขต ราชเทวี กรุงเทพ 10400 โทร. โทร. 02-232-4000
กำลัง ออน์ไลน์
ภายในเครือข่าย ThaiLIS จำนวน 93
ภายนอกเครือข่าย ThaiLIS จำนวน 3,884
รวม 3,977 คน

More info..
นอก ThaiLIS = 242,711 ครั้ง
มหาวิทยาลัยราชภัฏ = 274 ครั้ง
มหาวิทยาลัยสังกัดทบวงเดิม = 66 ครั้ง
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีราชมงคล = 29 ครั้ง
หน่วยงานอื่น = 10 ครั้ง
มหาวิทยาลัยเอกชน = 5 ครั้ง
มหาวิทยาลัยการกีฬาแห่งชาติ = 2 ครั้ง
รวม 243,097 ครั้ง
Database server :
Version 2.5 Last update 1-06-2018
Power By SUSE PHP MySQL IndexData Mambo Bootstrap
มีปัญหาในการใช้งานติดต่อผ่านระบบ UniNetHelp


Server : 8.199.134
Client : Not ThaiLIS Member
From IP : 216.73.216.50